光刻技术的发展是摩尔定律继续成立的原动力。更短的波长，更好的晶状体，直接促进了45纳米商用芯片的发布，而且32mn制程也在测试中，你或许会对此感到惊讶，但是毫无疑问，它不会停留在此水平，而是会继续向前发展。10月13日，科学家发布了新的无掩膜平板印刷技术，这可能是制造小于32nm制程芯片的关键。
传统的光刻技术采用负极掩模成像蚀刻在芯片上，但是这种技术成本高，而且研发时间长，对精度要求很高。你可想像这是需要很高的研发成本的，也可能是拖慢电路发展的一个因素。
新的无掩膜平板印刷技术可以绕过以上的难题，他采用光束和电子的作用产生的等离子体激元来完成的。光促使电子摆动，然后形成很多大的电场和光场，并在晶体上面产生一系列金属环，进而形成可以聚焦的光点进行蚀刻。
理论上使用该技术可以制造出5-10nm的芯片，但是实际上只能形成20纳米的等离子光束，看来还是有很长的一段路要走。